一、掩模版應用廣泛，其中IC領(lǐng)域需求占比最高
掩模版，又稱(chēng)光掩模版、光罩等，是微電子制造過(guò)程中的圖形轉移母版,是承載圖形設計和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權信息的載體，是平板顯示、半導體、觸控、電路板等行業(yè)生產(chǎn)制造過(guò)程中重要的關(guān)鍵材料。其中掩模版在IC領(lǐng)域需求占比最高，達60%。
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二、受需求提升疊加晶圓產(chǎn)能轉移帶動(dòng)，中國成為全球主要半導體掩模版市場(chǎng)
全球半導體材料市場(chǎng)規模近年來(lái)穩步增長(cháng)，受需求提升疊加晶圓產(chǎn)能轉移帶動(dòng)，我國半導體材料市場(chǎng)規模加速提升。根據數據，全球半導體材料市場(chǎng)規模呈現穩步增長(cháng)態(tài)勢，從2017年469億美元增長(cháng)至2022年的727億美元，年復合增長(cháng)率為9.16%，預計2023年規模為794億美元；中國大陸半導體材料市場(chǎng)規?？焖僭鲩L(cháng)，從2019年的87億美元增長(cháng)至2022年的129.7億美元，年復合增長(cháng)率為14.24%，預計2023年規模為148.2億美元，增速遠超全球半導體材料市場(chǎng)。
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作為半導體材料的重要組成部分，掩模版占半導體材料市場(chǎng)規模的比例約為12%，僅次于硅片和電子特氣。由此推算，2023年全球半導體掩模版市場(chǎng)規模為95.28億美元，2023年中國半導體掩模版市場(chǎng)規模約為17.78億美元，占全球半導體掩模版市場(chǎng)規模的18.66%。
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三、獨立第三方掩模版市場(chǎng)高度集中，國內企業(yè)整體處于加速追趕階段
半導體掩模版生產(chǎn)廠(chǎng)商可以分為晶圓廠(chǎng)自建配套工廠(chǎng)和獨立第三方掩模廠(chǎng)商兩大類(lèi)。先進(jìn)制程晶圓制造涉及機密、且制造難度較大，所用的掩模版大部分為晶圓廠(chǎng)自建配套工廠(chǎng)，如英特爾、三星、臺積電、中芯國際等公司的掩模版均主要由自制掩模版部門(mén)提供。對于28nm以上等較為成熟的制程所用的掩模版，芯片制造廠(chǎng)商出于成本考慮，在滿(mǎn)足技術(shù)要求下，更傾向于向獨立第三方掩模版廠(chǎng)商進(jìn)行采購。根據數據，全球晶圓制造代工收入中28nm以上制程的收入占比約為55.38%。
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在全球半導體掩模版市場(chǎng)，晶圓廠(chǎng)自行配套的掩模版工廠(chǎng)規模占比65%，獨立第三方掩模廠(chǎng)商規模占比35%。獨立第三方掩模版市場(chǎng)主要被美國Photronics、日本Toppan和日本DNP三家公司所控制，三者共占八成以上的市場(chǎng)規模，市場(chǎng)集中度較高。
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全球獨立第三方半導體掩膜版廠(chǎng)商簡(jiǎn)介
| 企業(yè)名稱(chēng) | 簡(jiǎn)介 | 營(yíng)收情況 |
| Photronics | 福尼克斯（Photronics）成立于1969年，是世界上領(lǐng)先的掩膜版制造商之一，也是北美第一大掩膜版制造廠(chǎng)商。公司于1987年在納斯達克上市，在北美、英國、德國、日本、中國臺灣、韓國和新加坡都設有制造和銷(xiāo)售中心。福尼克斯目前在全球范圍內擁有十一家工廠(chǎng)，產(chǎn)品均為石英掩膜版，主要用于半導體芯片和顯示面板行業(yè)。福尼克斯作為獨立第三方掩膜版廠(chǎng)商，是目前少數幾家目前可以提供先進(jìn)工藝所需掩膜版的廠(chǎng)商之一，其二元OPC掩膜版已經(jīng)可以支持到14nm到28nm的工藝節點(diǎn)，而PSM相移技術(shù)的加入，進(jìn)一步提高了圖形曝光分辨率，使其得以突破14nm，可以提供5nm及之后節點(diǎn)的EUV（ExtremeUltra-Violet，極紫外光刻）掩膜版。 | 2022年福尼克斯實(shí)現營(yíng)業(yè)收入8.25億美元，同比增加24%；IC板塊收入5.93億美元，同比增加29%，其中28nm及以下先進(jìn)制程產(chǎn)品（高端產(chǎn)品）占比相對較低，仍以28nm以上制程產(chǎn)品為主。 |
| Toppan | Toppan（凸版印刷株式會(huì )社）成立于1908年，2022年4月，Toppan與日本私募股權公司IntegralCorporation成立Toppanphotomask，獨立其半導體掩膜版業(yè)務(wù)，并強化半導體掩膜版和FC-BGA基板的研發(fā)和銷(xiāo)售。在技術(shù)方面，Toppan同樣著(zhù)力于開(kāi)發(fā)EUV光刻掩膜版，目前已具有量產(chǎn)能力。Toppan在全球擁有8個(gè)生產(chǎn)基地，是世界上唯一一家在北美、歐洲、亞洲均設有生產(chǎn)基地的供應商。Toppan上海工廠(chǎng)以生產(chǎn)66/55nm制程掩膜版為主，2019年起開(kāi)始生產(chǎn)28/14nm的先進(jìn)制程掩膜版。Toppan的競爭優(yōu)勢在于生產(chǎn)和銷(xiāo)售網(wǎng)絡(luò )遍布全球，以應對地緣政治風(fēng)險，客戶(hù)源較穩定。 | 2022財年，Toppan電子事業(yè)部（包含半導體業(yè)務(wù)和顯示元器件業(yè)務(wù)）共實(shí)現營(yíng)業(yè)收入2553億日元，同比增長(cháng)20.6%，半導體業(yè)務(wù)實(shí)現營(yíng)收1591億日元，占比超60%。 |
| DNP | DNP（大日本印刷株式會(huì )社）成立于1876年，涉及以印刷技術(shù)為核心的多個(gè)業(yè)務(wù)領(lǐng)域，是世界上首次采用多電子光束繪制設備制造掩膜版的企業(yè)，掩膜版產(chǎn)品不僅可用于當下最先進(jìn)的EUV光刻，還可用于5nm高端制程。此外DNP還通過(guò)與IMEC（比利時(shí)微電子研究中心）合作，推進(jìn)3nm及以下的更高制程產(chǎn)品的工藝研發(fā)。2022年11月，DNP宣布擬投資200億日元，在位于日本福岡縣北九州市的黑崎工廠(chǎng)新設產(chǎn)線(xiàn)，用于生產(chǎn)OLED精細金屬掩膜版。新產(chǎn)線(xiàn)計劃在2024年上半年投產(chǎn)。擴產(chǎn)后，DNP將憑借在智能手機應用掩膜版市占率第一的優(yōu)勢向平板、筆記本電腦方向擴大業(yè)務(wù)量。 | 2022財年DNP電子業(yè)務(wù)板塊實(shí)現營(yíng)收2036億日元，毛利率為22%。在電子業(yè)務(wù)中，引線(xiàn)框架和半導體封裝組件銷(xiāo)售額均有所下滑，只有掩膜版業(yè)務(wù)增長(cháng)強勁，帶動(dòng)了電子板塊銷(xiāo)售額實(shí)現同比增長(cháng)。 |
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根據觀(guān)研報告網(wǎng)發(fā)布的《中國半導體掩膜版行業(yè)現狀深度研究與發(fā)展趨勢分析報告（2024-2031年）》顯示，國內半導體掩模版主要生產(chǎn)商包括中芯國際光罩廠(chǎng)、迪思微、中微掩模、龍圖光罩、清溢光電、路維光電、中國臺灣光罩等；其中，中芯國際光罩廠(chǎng)為晶圓廠(chǎng)自建工廠(chǎng)，產(chǎn)品供內部使用；清溢光電、路維光電產(chǎn)品以中大尺寸平板顯示掩模版為主。
國內掩膜版企業(yè)整體處于加速追趕階段，相對而言仍有較大發(fā)展空間。當前國內掩膜版企業(yè)基本均處于350-130nm制程范圍內，其中龍圖光罩2022年掩膜版工藝節點(diǎn)提升至130nm，路維光電已實(shí)現250nm半導體掩膜版量產(chǎn)，并掌握了180/150nm節點(diǎn)的核心制造技術(shù)。
國內掩膜版企業(yè)簡(jiǎn)介
| 企業(yè)名稱(chēng) | 簡(jiǎn)介 |
| 龍圖光罩 | 龍圖光罩2022年掩膜版工藝節點(diǎn)提升至130nm。公司擬通過(guò)募投項目“高端半導體芯片掩模版制造基地項目”開(kāi)展更高制程節點(diǎn)（130-65nm）半導體掩膜版的開(kāi)發(fā)及產(chǎn)業(yè)化，實(shí)現產(chǎn)品結構的升級。 |
| 路維光電 | 公司是國內唯一一家G2.5-G11全世代產(chǎn)線(xiàn)的本土掩膜版生產(chǎn)企業(yè)，產(chǎn)品可全面配套不同世代面板產(chǎn)線(xiàn)（G2.5-G11）。路維光電已實(shí)現250nm半導體掩膜版量產(chǎn)，并掌握了180/150nm節點(diǎn)的核心制造技術(shù)。 |
| 中芯國際光罩廠(chǎng) | 中芯國際光罩廠(chǎng)提供其代工客戶(hù)和其它芯片加工廠(chǎng)及機構光掩模制造服務(wù)。配備了先進(jìn)的設備工具，中芯光罩廠(chǎng)運用光學(xué)趨近效應修正技術(shù)(OPC)，為客戶(hù)提供二元鉻版光掩模以及相位移動(dòng)光掩模。5"×5"和6"×6"的光掩模均可用于G-line，I-line，深紫外線(xiàn)DUV及ArF步進(jìn)曝光機和掃描曝光機。 |
| 中微掩模 | 從事0.13μm及以上水平的高端集成電路掩模生產(chǎn)和技術(shù)開(kāi)發(fā)，江蘇省科技廳認定的高新技術(shù)企業(yè)，無(wú)錫市深亞微米掩模工程技術(shù)研究中心。 |
| 中國臺灣光罩 | 中國臺灣光罩主要產(chǎn)能集中于65nm以上制程，預計2023年Q4實(shí)現40nm制程量產(chǎn)，2025年實(shí)現28nm量產(chǎn)。 |
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