全球光刻機銷(xiāo)量整體上升 中低端產(chǎn)品為主流 中國國產(chǎn)替代空間廣闊

1.全球光刻機銷(xiāo)量整體上升

根據觀(guān)研報告網(wǎng)發(fā)布的《中國光刻機行業(yè)發(fā)展趨勢分析與未來(lái)投資預測報告（2024-2031年）》顯示，光刻機又名掩模對準曝光機，是一種用于制造?半導體芯片的關(guān)鍵設備，通過(guò)類(lèi)似照片沖印的技術(shù)，將掩膜版上的精細圖形通過(guò)光線(xiàn)的曝光印制到?硅片上。?其廣泛應用于半導體芯片的生產(chǎn)，是制造高端芯片不可或缺的設備，技術(shù)水平和制造精度直接影響到芯片的性能和制程水平。因此，光刻機行業(yè)發(fā)展與半導體行業(yè)發(fā)展息息相關(guān)。數據顯示，近年來(lái)全球半導體行業(yè)穩步發(fā)展，銷(xiāo)售規模呈現整體擴大態(tài)勢，由2016年的3400億美元上升至2022年的5740億美元，年均復合增長(cháng)率達到9.12%。在半導體行業(yè)推動(dòng)下，全球光刻機銷(xiāo)量也整體呈現上升態(tài)勢，由2016年的245臺上升至2022年的510臺，年均復合增長(cháng)率達到13%。

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2.全球光刻機市場(chǎng)以中低端產(chǎn)品為主

據悉，光刻機可分為直寫(xiě)光刻機與掩膜光刻機，主要有i-Iine（汞線(xiàn)）、KrF（氟化氪）、ArF（氟化氬）、ArFi（浸潤式氟化氬）、EUV（極紫外）五大類(lèi)。其中，i-Iine（汞線(xiàn)）、KrF（氟化氪）光刻機是光刻機市場(chǎng)中的中低端產(chǎn)品，2022年銷(xiāo)量合計占比71.5%，是全球光刻機市場(chǎng)中的主流產(chǎn)品；ArF（氟化氬）和ArFi（浸潤式氟化氬）光刻機為高端產(chǎn)品，2022年合計占比21.2%；EUV（極紫外）光刻機為超高端產(chǎn)品，銷(xiāo)量占比僅為7.3%。

2022年全球各類(lèi)光刻機銷(xiāo)量占比情況

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3.全球光刻機市場(chǎng)呈現寡頭壟斷格局

光刻機被稱(chēng)為半導體工業(yè)皇冠上的明珠，是技術(shù)難度、價(jià)值量最高的半導體設備，技術(shù)復雜度和制造難度極高，核心技術(shù)掌握在全球少數幾家公司手中。同時(shí)，光刻機行業(yè)還存在較高的人才和資金壁壘，行業(yè)進(jìn)入門(mén)檻高。也因此，全球光刻機市場(chǎng)呈現寡頭壟斷競爭格局，來(lái)自荷蘭的ASML獨占了全球70%以上的市場(chǎng)份額，2022年達到82.10%；其次是日本的Canon，達到10.2%。從2023年全球光刻機的銷(xiāo)量來(lái)看，ASML龍頭地位穩固，銷(xiāo)量穩居世界第一，達到449臺，幾乎是排名第二的Canon和第三的Nikon兩家公司銷(xiāo)量總和的2倍。

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4.中國光刻機國產(chǎn)替代空間廣闊

我國是全球最大的半導體市場(chǎng)，芯片銷(xiāo)售規模約占全球的1/3，對光刻機的需求量大。但我國光刻機行業(yè)起步較晚且技術(shù)壁壘高筑，目前其國產(chǎn)化率不足5%，需要大量依靠進(jìn)口補充。同時(shí)面對其他國家光刻機、芯片等產(chǎn)品的出口限制，實(shí)現光刻機國產(chǎn)替代勢在必行, 進(jìn)口替代空間廣闊。

不過(guò)，國產(chǎn)光刻機已經(jīng)有了重大突破。2024年9月，為促進(jìn)首臺（套）重大技術(shù)裝備創(chuàng )新發(fā)展和推廣應用，加強產(chǎn)業(yè)、財政、金融、科技等國家支持政策的協(xié)同，工業(yè)和信息化部發(fā)布《首臺（套）重大技術(shù)裝備推廣應用指導目錄（2024年版）》。其中，在電子專(zhuān)用設備一欄，氟化氪光刻機、氟化氬光刻機位列其中。據悉，中國首臺（套）重大技術(shù)裝備是指國內實(shí)現重大技術(shù)突破、擁有知識產(chǎn)權、尚未取得明顯市場(chǎng)業(yè)績(jì)的裝備產(chǎn)品。這也意味著(zhù)入選的兩款光刻機產(chǎn)品均由我國自主研發(fā)而成，且已經(jīng)擁有氟化氬光刻機這一高端產(chǎn)品。未來(lái)，隨著(zhù)光刻機技術(shù)不斷突破和利好政策持續推動(dòng)，預計我國光刻機國產(chǎn)替代進(jìn)程將會(huì )持續推進(jìn)，國產(chǎn)化率或將不斷提高。（WJ）