前言：
光刻膠是繼硅片、電子特氣和光掩模之后的第四大半導體材料，其性能對芯片性能和良率產(chǎn)生直接影響。中國半導體產(chǎn)能全球領(lǐng)先，半導體光刻膠市場(chǎng)需求強勁。隨著(zhù)半導體工藝和制程升級，高端光刻膠需求迅速增長(cháng)，其中EUV光刻膠占比仍然較小，增長(cháng)空間廣闊。
半導體光刻膠行業(yè)壁壘高，市場(chǎng)主要被美日企業(yè)占據，JSR、東京應化、美國杜邦、信越化學(xué)、住友及富士膠片等頭部廠(chǎng)商在半導體光刻膠的高端領(lǐng)域中占據極高的市場(chǎng)比重。近年來(lái)，隨著(zhù)中國晶圓廠(chǎng)擴產(chǎn)過(guò)程中加速驗證導入本土光刻膠以及上游樹(shù)脂國產(chǎn)化進(jìn)程加快，國內半導體光刻膠廠(chǎng)商迎來(lái)發(fā)展機遇，目前在 G/I 線(xiàn)、KrF、ArF 等領(lǐng)域已實(shí)現一定量產(chǎn)。
一、光刻膠及其相關(guān)輔助材料占比超10%，是第四大半導體材料
根據觀(guān)研報告網(wǎng)發(fā)布的《中國半導體光刻膠行業(yè)發(fā)展深度分析與投資前景研究報告（2025-2032年）》顯示，光刻膠是一種圖形轉移介質(zhì)，依賴(lài)于光化學(xué)反應，通過(guò)曝光顯影和刻蝕等工藝，將掩模板上所需的微細圖形精確地轉移到待加工的基片上。
光刻膠在半導體晶圓制造材料價(jià)值中的占比為5%，其輔助材料占比7%，合計達到12%。光刻膠及其相關(guān)輔助材料成為繼硅片、電子特氣和光掩模之后的第四大半導體材料。
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二、我國半導體產(chǎn)能全球領(lǐng)先，半導體光刻膠市場(chǎng)需求強勁
半導體制造的核心材料--光刻膠的性能對芯片性能和良率產(chǎn)生直接影響。中國半導體產(chǎn)能全球領(lǐng)先，半導體光刻膠市場(chǎng)需求強勁。數據顯示，2023年,中國大陸半導體產(chǎn)能占全球的比重達20%左右,中國大陸半導體光刻膠市場(chǎng)規模占全球的23.1%。
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隨著(zhù)中國晶圓廠(chǎng)密集投產(chǎn)，發(fā)力半導體成熟制程，預計2028年國內半導體光刻膠市場(chǎng)規模將達到10.36億美元，2023-2028年CAGR為13.8%。
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三、半導體工藝和制程升級下高端光刻膠需求迅速增長(cháng)，EUV光刻膠前景廣闊
根據不同的曝光光源波長(cháng)，半導體光刻膠細分為g線(xiàn)光刻膠、i線(xiàn)光刻膠、KrF光刻膠、ArF光刻膠、EUV光刻膠五類(lèi)。
G/I線(xiàn)光刻膠是較早的光刻膠技術(shù)，成熟應用于汽車(chē)電子等領(lǐng)域；KrF光刻膠主要應用于0.25um及以下各制程，特別是在3D NAND堆疊架構的制作中；ArF光刻膠在浸潤式光刻系統和負顯影工藝等技術(shù)的助力下，將先進(jìn)制程從45nm推進(jìn)至7nm工藝；EUV光刻膠是最新一代技術(shù)，應用于7nm以下集成電路的制造，在邏輯芯片和存儲DRAM芯片的生產(chǎn)中十分重要。
隨著(zhù)半導體工藝和制程升級，高端光刻膠需求迅速增長(cháng)。其中KrF光刻膠受3D NAND堆疊層數增長(cháng)驅動(dòng)，ArF光刻膠用量增加受多重光刻工藝增長(cháng)驅動(dòng)，光刻道次的增多將使EUV光刻膠需求增加。
根據數據，2023 年中國大陸半導體光刻膠中 ArF 和 KrF合計占據超八成的市場(chǎng)份額，其中ArF光刻膠達44.28%，是 2023 年國內唯一正增長(cháng)的光刻膠種類(lèi)。隨著(zhù)人工智能強勁推動(dòng) AI 服務(wù)器和存儲芯片發(fā)展，以及集成電路先進(jìn)制程工藝增長(cháng)，高端光刻膠需求進(jìn)一步增長(cháng)，尤其是在用EUV 技術(shù)生產(chǎn)的芯片的增長(cháng)下，EUV光刻膠有望成為最具增長(cháng)潛力的細分市場(chǎng)。
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四、全球半導體光刻膠行業(yè)由美日主導，國內廠(chǎng)商在多領(lǐng)域實(shí)現突破
半導體光刻膠行業(yè)壁壘顯著(zhù)高于PCB光刻膠和LCD光刻膠，集中體現在高純度以及復雜的生產(chǎn)工藝、巨額的設備投資、對關(guān)鍵原材料的高度依賴(lài)上，此外，光刻膠高技術(shù)特性使得其質(zhì)量直接影響下游產(chǎn)品的質(zhì)量，產(chǎn)業(yè)有著(zhù)較高采購成本與認證成本，行業(yè)客戶(hù)壁壘高。
目前全球光刻膠市場(chǎng)主要被美日企業(yè)占據，頭部廠(chǎng)商包括JSR、東京應化、美國杜邦、信越化學(xué)、住友及富士膠片等，尤其在半導體光刻膠的高端領(lǐng)域中，上述企業(yè)占據更高的市場(chǎng)比重。
近年來(lái)，國內半導體光刻膠廠(chǎng)商迎來(lái)機遇。一方面，中國晶圓廠(chǎng)擴產(chǎn)過(guò)程中加速驗證導入本土光刻膠；另一方面，上游半導體光刻膠樹(shù)脂涌現了許多國產(chǎn)廠(chǎng)商，供給能力有所提高。目前，國內半導體光刻膠企業(yè)在 G/I 線(xiàn)、KrF、ArF 等領(lǐng)域已實(shí)現一定量產(chǎn)，未來(lái)隨著(zhù)技術(shù)壁壘的進(jìn)一步突破，半導體光刻膠國產(chǎn)替代加速突破。
中國光刻膠樹(shù)脂主要廠(chǎng)商布局情況
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企業(yè) |
樹(shù)脂供應類(lèi)型 |
布局情況 |
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威邁芯材 |
BARC樹(shù)脂 |
韓國工廠(chǎng)已量產(chǎn) 中國合肥工廠(chǎng)建設中 |
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圣泉集團 |
顯示用酚醛樹(shù)脂 |
實(shí)現量產(chǎn) |
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微芯新材 |
KrF用樹(shù)脂 |
研發(fā)階段 |
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八億時(shí)空 |
KrF用PHS 樹(shù)脂 |
50公斤級別量產(chǎn) |
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彤程新材 |
G/I線(xiàn);KrF用樹(shù)脂 |
認證階段 |
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TFT-LCD Array正膠酚醛樹(shù)脂 LCD光刻膠酚醛樹(shù)脂 |
已實(shí)現量產(chǎn) |
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珠海雅天 |
ArF用樹(shù)脂 |
少量供應 |
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徐州博康 |
KrF、ArF用樹(shù)脂和單體材料 |
實(shí)現供應原材到成品光刻膠 |
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全球半導體光刻膠主要廠(chǎng)商布局情況
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國家/地區 |
企業(yè)名稱(chēng) |
g線(xiàn)/i線(xiàn) |
KrF |
ArF(干式) |
ArF(浸沒(méi)式) |
EUV |
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日本 |
JSR |
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東京應化 |
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信越化學(xué) |
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富士膠片 |
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住友化學(xué) |
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美國 |
陶氏杜邦 |
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德國 |
默克 |
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韓國 |
東進(jìn)世美肯 |
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中國大陸 |
上海新陽(yáng) |
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√ |
下游驗證中 |
下游驗證中 |
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彤程新材 |
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下游驗證中 |
下游驗證中 |
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華懋科技(徐州博康) |
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晶瑞電材 |
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√ |
研發(fā)中 |
研發(fā)中 |
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南大光電 |
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少量出貨 |
少量出貨 |
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容大感光 |
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