一、去膠工藝是半導體制造過(guò)程中的重要環(huán)節之一,主要分為濕法與干法兩類(lèi)
根據觀(guān)研報告網(wǎng)發(fā)布的《中國半導體去膠設備行業(yè)發(fā)展深度分析與投資前景預測報告(2025-2032年)》顯示,在半導體制造工藝中,去膠工藝是不可或缺的一環(huán),是光刻工藝中的最后一步,其直接關(guān)系到芯片成品的質(zhì)量與性能。在光刻工藝中,去膠設備主要用于曝光后將光刻膠從晶圓上移除,以此來(lái)保證晶圓順利進(jìn)入下一步制造步驟。
去膠工藝可分為濕法和干法兩類(lèi)。其中濕法去膠工藝使用溶劑對光刻膠等進(jìn)行溶解,不適合用于A(yíng)I、Cu等制程的去膠;干法去膠工藝可視為等離子刻蝕技術(shù)的延伸,主要通過(guò)等離子體和薄膜材料的化學(xué)反應完成,適用于絕大部分的去膠工藝,是當前的主流工藝。
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二、去膠設備是半導體設備重要的一個(gè)分支,擁有較大的發(fā)展空間
半導體去膠設備是指在半導體去膠工藝中所涉及到的設備總稱(chēng),是半導體設備重要的一個(gè)分支。半導體設備,作為高科技制造領(lǐng)域的關(guān)鍵一環(huán),涵蓋了晶圓制造、封裝測試等全流程所需的各種精密儀器。這些設備不僅對芯片的性能和成本產(chǎn)生直接影響,還是推動(dòng)整個(gè)半導體行業(yè)技術(shù)進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)升級的重要基石。
近年來(lái),在下游半導體行業(yè)發(fā)展帶動(dòng)下,我國半導體設備市場(chǎng)規模整體擴大,并在 2020 年首次成為全球最大的半導體設備市場(chǎng),銷(xiāo)售額增長(cháng) 39%,達到 187.2億美元。到2023 年中國大陸半導體設備市場(chǎng)規模達到 366 億美元,仍然是全球最大的半導體設備市場(chǎng)。而結合全球半導體設備發(fā)展趨勢、我國半導體設備國產(chǎn)替代以及下游需求旺盛的多重作用,未來(lái)幾年我國半導體設備行業(yè)仍將保持高速增長(cháng)態(tài)勢,保守預計2023—2028年,我國半導體設備行業(yè)市場(chǎng)規模將穩步提升,保持在15%左右的復合增長(cháng)率,到2028年,我國半導體設備市場(chǎng)規模將達到655億美元??梢?jiàn),去膠設備作為半導體設備重要的一個(gè)分支,其擁有較大的發(fā)展空間。
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三、半導體行業(yè)發(fā)展帶動(dòng)半導體去膠設備發(fā)展
半導體去膠設備與半導體產(chǎn)業(yè)的繁榮狀況緊密相連。近年隨著(zhù)半導體行業(yè)發(fā)展的帶動(dòng),半導體去膠設備也隨之發(fā)展。當今數字經(jīng)濟迅速發(fā)展,半導體行業(yè)作為現代科技與工業(yè)領(lǐng)域的核心基石,對全球經(jīng)濟和社會(huì )發(fā)展具有深遠影響,吸引了越來(lái)越多的投資者的關(guān)注。在此背景下,半導體去膠設備作為半導體行業(yè)的重要一個(gè)分支,未來(lái)也有著(zhù)廣闊的發(fā)展空間。
近年來(lái),由于美國等國家對我國半導體產(chǎn)業(yè)限制持續加劇以及終端應用需求呈現周期性疲軟態(tài)勢,導致2022-2023年我國半導體市場(chǎng)規模存在不同程度的下降。根據數據顯示,2023年我國半導體市場(chǎng)規模達到1552億美元。
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四、晶圓產(chǎn)能不斷擴充給去膠設備帶來(lái)廣闊市場(chǎng)需求
目前去膠設備主要應用在集成電路中的前道芯片制造領(lǐng)域。據了解,集成電路制造設備通??煞譃榍暗拦に囋O備(芯片制造)和后道工藝設備(芯片封裝測試)兩大類(lèi)。其中,前道芯片制造主要包括六大工藝步驟,分別為:熱處理(Thermal Process)、光刻(Photo-lithography)、刻蝕(Etch)、離子注入(Ion Implant)、薄膜沉積(Deposition)、機械拋光(CMP),所對應的專(zhuān)用設備主要包括快速熱處理(RTP)/氧化/擴散設備、光刻設備、刻蝕/去膠設備、離子注入設備、薄膜沉積設備、機械拋光設備等。
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近年來(lái)隨著(zhù)下游應用市場(chǎng)需求增加,加上各國貿易的不穩定,全球芯片供需出現失衡,國內晶圓代工企業(yè)接連宣布投資建造或規劃建設新產(chǎn)線(xiàn),以擴大晶圓產(chǎn)能,從而帶動(dòng)了半導體去交設備市場(chǎng)需求快速增長(cháng)。數據顯示,截至2023年12月,我國內地12英寸、8英寸和6英寸及以下的硅晶圓制造線(xiàn)共有210條。12英寸晶圓廠(chǎng)45座,規劃產(chǎn)能合計238萬(wàn)片,8英寸晶圓廠(chǎng)34座,規劃產(chǎn)能合計168萬(wàn)片,6英寸晶圓廠(chǎng)48座,規劃產(chǎn)能合計264萬(wàn)片,5/4/3英寸晶圓廠(chǎng)63座,規劃產(chǎn)能合計730萬(wàn)片。
2023年我國大陸晶圓制造產(chǎn)能分布
廠(chǎng)商 |
地點(diǎn) |
晶圓廠(chǎng) |
工藝制程 |
尺寸 |
規劃產(chǎn)能(萬(wàn)片/月) |
中芯國際 |
上海 |
中芯南方SN1 |
14nm FinFET |
12 |
3.5 |
上海 |
中芯上海S1 Fab1 |
0.35um-90nm |
8 |
13.5 |
|
上海 |
中芯上海S1 Fab2 |
0.35um-90nm |
8 |
— |
|
華虹集團 |
上海 |
華力一期Fab5 |
65nm/55nm, 40nmLogic,RF, CIS,HV, eNVM |
12 |
4 |
上海 |
華力二期Fab6 |
28nm/22nmLogic, RF, CIS, eNVM |
12 |
4 |
|
上海 |
華虹宏力Fab1 |
1.0 μm-90nm eNVM,Discrete,BCD,Logic/RF,CIS |
8 |
17 |
|
上海 |
華虹宏力Fab2 |
— |
8 |
17.8 |
|
上海 |
華虹宏力Fab3 |
— |
8 |
— |
|
積塔半導體 |
上海 |
Fab6 |
55nm特色工藝先導線(xiàn)(一階段)40/28nm汽車(chē)電子芯片生產(chǎn)線(xiàn)(二階段) |
12 |
5 |
上海 |
Fab5 |
0.35-0.11um,模擬、功率器件 |
8 |
8 |
|
上海 |
Fab3 |
0.5-2.5um BCD,數?;旌?/span> |
8 |
3 |
|
上海 |
Fab2 |
1.0-0.8um BCD, IGBT |
6 |
7 |
|
上海 |
Fab7 |
SiC MOSFET |
6 |
3 |
|
鼎泰匠芯 |
上海 |
— |
0.18/0.11umMOSFET,GBT,Logic,Analog |
12 |
3 |
臺積電 |
上海 |
Fab10 |
0.35-0.18μm CMOS |
8 |
12 |
中芯國際 |
北京 |
中芯北京B1 Fab4 |
90nm-55nm |
12 |
6.5 |
中芯北方B2 |
65nm-28nm |
12 |
10 |
||
中芯北方B3 |
65nm-28nm |
12 |
— |
||
中芯京城FAB3P1 |
65nm-28nm |
12 |
10 |
||
燕東微 |
北京 |
— |
65nm功率器件、顯示驅動(dòng)、電源管理、硅光芯片 |
8 |
5 |
北京 |
— |
90nm 以上MOSFET、IGBT、CMOS、BCD、MEMS |
8 |
3 |
|
賽微電子 |
北京 |
Fab3 |
0.25um-lum MEMS BAW |
8 |
3 |
中芯國際 |
深圳 |
中芯深圳G2 Fab16 |
65nm-28nm |
12 |
4 |
深圳 |
中芯深圳G1 Fab15 |
0.35μum-0.15μum |
8 |
7 |
|
方正微 |
深圳 |
Fab1 |
DMOS、IGBT、SBD、FRD、BiCMOS、BCD、GaN,SiC |
6 |
5 |
深圳 |
Fab2 |
DMOS、IGBT、SBD、FRD、BiCMOS、BCD、GaN,SiC |
6 |
||
深?lèi)?ài)半導體 |
深圳 |
— |
DMOS、MOSFET、IGBT,FTD, TVS, GaN, SiC |
6 |
4 |
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五、當前市場(chǎng)呈現多寡頭壟斷格局,CR5達到為93.5%
當前全球集成電路制造干法去膠設備領(lǐng)域呈現多寡頭競爭的發(fā)展趨勢,行業(yè)CR5在2023年超過(guò) 90%,比思科、屹唐半導體、泰仕半導體、愛(ài)發(fā)科、泛林半導體等為主要參與者。其中屹唐半導體憑借 34.60%的市場(chǎng)占有率位居全球第二,確立了在干法去膠設備細分市場(chǎng)中國際領(lǐng)先的行業(yè)地位。
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在國內市場(chǎng)上,集成電路制造干法去膠設備領(lǐng)域同樣也呈現多寡頭競爭態(tài)勢,多寡頭競爭超過(guò)90%。有數據顯示,2022年在我國干法去膠設備領(lǐng)域,前五大廠(chǎng)商的市場(chǎng)份額合計達到93.5%。這一數據表明,當前我國干法去膠設備領(lǐng)域市場(chǎng)高度集中。目前在我國干法去膠設備領(lǐng)域里,主要有屹唐半導體、中屹唐半導體等。(WW)

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