1、干法刻蝕逐漸成為集成電路制造刻蝕設備行業(yè)主流
刻蝕是指通過(guò)溶液、離子等方式剝離移除如硅、金屬材料、介質(zhì)材料等晶圓表面材料,從而達到集成電路芯片結構設計要求的一種工藝流程。從工藝技術(shù)來(lái)看,刻蝕可分為濕法刻蝕(Wet Etching)和干法刻蝕(DryEtching)兩類(lèi)。80 年代之后,隨著(zhù)集成電路工藝制程的逐漸升級以及芯片結構尺寸的不斷縮進(jìn),濕法刻蝕在線(xiàn)寬控制、刻蝕方向性方面的局限性逐漸顯現,并逐漸被干法刻蝕取代,目前僅用于特殊材料層的去除和殘留物的清洗。
干法刻蝕則是運用等離子體產(chǎn)生帶電離子以及具有高濃度化學(xué)活性的中性原子和自由基,通過(guò)這些粒子與晶圓產(chǎn)生物理和化學(xué)反應,從而將光刻圖形轉移到晶圓上。相比濕法刻蝕,干法刻蝕精確度、潔凈度更高,因此隨著(zhù)芯片技術(shù)進(jìn)入納米階段,干法刻蝕逐漸成為主流,但設備復雜度和成本也較高。
2、中國是全球最大的集成電路市場(chǎng)之一,刻蝕設備需求規模龐大
根據觀(guān)研報告網(wǎng)發(fā)布的《中國集成電路制造干法刻蝕設備行業(yè)發(fā)展深度研究與投資前景分析報告(2025-2032年)》顯示,近年來(lái),全球及中國集成電路市場(chǎng)規模持續擴大,尤其是在5G、物聯(lián)網(wǎng)、人工智能等技術(shù)的推動(dòng)下,集成電路在通信、計算機、消費電子等領(lǐng)域的應用日益廣泛。而中國作為全球最大的集成電路市場(chǎng)之一,其銷(xiāo)售額持續增長(cháng),預計未來(lái)幾年市場(chǎng)規模將繼續擴大。
根據數據顯示,2023年中國集成電路行業(yè)銷(xiāo)售規模為12276.9億元,預計2024年銷(xiāo)售規模將達到12890.7億元;2023年中國集成電路產(chǎn)量為3514.35億塊,2025年預計為集成電路產(chǎn)量約為5191億塊。
數據來(lái)源:觀(guān)研天下整理
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3、全球集成電路制造干法刻蝕設備行業(yè)市場(chǎng)規模整體擴大
隨著(zhù)集成電路行業(yè)的不斷發(fā)展,集成電路制造產(chǎn)業(yè)對于刻蝕工藝的復雜度要求不斷上升,刻蝕技術(shù)也在不斷地演進(jìn):主要運用設備已從只能進(jìn)行有限控制的圓筒式刻蝕機,發(fā)展至集成刻蝕參數控制軟件的現代等離子體刻蝕機。根據數據,2021年,全球集成電路制造干法刻蝕設備市場(chǎng)規模199.24億美元,同比增長(cháng)45.63%,在全球集成電路制造設備市場(chǎng)的規模占比達21.58%;2022年,全球集成電路制造干法刻蝕設備市場(chǎng)規模預計將增長(cháng)至240.98億美元,增長(cháng)率約為20.95%。而我國作為全球最大集成電路市場(chǎng)之一,集成電路制造干法刻蝕設備行業(yè)規模也將隨之上升。
數據來(lái)源:觀(guān)研天下整理
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4、我國集成電路制造干法刻蝕設備行業(yè)國產(chǎn)化有待提高
在市場(chǎng)競爭方面,由于刻蝕工藝復雜、技術(shù)壁壘高,早期進(jìn)入市場(chǎng)的國際巨頭如泛林半導體、東京電子、應用材料等擁有領(lǐng)先的技術(shù)工藝及客戶(hù)資源,占據全球主要市場(chǎng)份額。根據數據,2023年,全球集成電路制造干法刻蝕設備行業(yè)前三大廠(chǎng)商泛林半導體、東京電子及應用材料合計占83.95%的市場(chǎng)份額,市場(chǎng)格局高度集中,寡頭壟斷現狀較難打破。
數據來(lái)源:觀(guān)研天下整理
而我國集成電路制造干法刻蝕設備行業(yè)起步較晚,國內主要廠(chǎng)商如中微公司、北方華創(chuàng )、屹唐半導體等企業(yè)尚處于追趕階段,全球市場(chǎng)占有率較低,可見(jiàn)國內仍有較大的發(fā)展空間。(WYD)

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